难熔材料表面双辉深积铱涂层研究

本书特色

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《难熔材料表面双辉沉积铱涂层研究》介绍的仅是采用双辉等离子技术在不同的高熔点导电基体上制备ir涂层的一种探索研究，提出了一些新的观点和看法，其中揭示的机制和规律还有待商榷。但是经过系统研究后，笔者发现了一些规律性的科学问题，即ir涂层沿(220)晶面强烈的择优取向问题，柱状ir涂层高温转化成等轴晶时产生的大量纳米孔问题，牺牲难熔金属保护内部涂层问题等都有待深入研究。本书由陈照峰，吴王平著。

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内容简介

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本书中介绍了采用双层辉光等离子技术在碳材料、碳/碳复合材料、碳化钨陶瓷，以及钼、铌、钨等难熔金属表面制备铱涂层的原理和方法。

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目录

第1章 ir的性质及其涂层制备方法
1.1 ir的性质
1.2 ir涂层制备方法
第2章 c基体表面沉积ir涂层
2.1 引言
2.2 实验过程
2.3 工艺参数对涂层表面形貌的影响
2.4 等离子体的绕射现象
2.5 ir涂层的微观结构
2.6 ir涂层的生长方式
2.7 ir涂层的断裂方式
2.8 ir涂层的力学性能
2.9 涂层的高温烧蚀
2.10 小结
第3章 双辉等离子法在mo基体表面沉积ir涂层
3.1 引言
3.2 实验过程
3.3 ir涂层的组织结构及形貌表征
3.4 共混区形成机理
3.5 涂层的力学性能
3.6 涂层高温处理
3.7 涂层高温烧蚀
3.8 小结
第4章 双辉等离子法在nb基体表面沉积ir涂层
4.1 引言
4.2 实验过程
4.3 ir涂层的形貌表征
4.4 ir涂层的力学性能
4.5 涂层高温烧蚀
4.6 小结
第5章 双辉等离子法在w基体表面沉积ir涂层
5.1 引言
5.2 实验过程
5.3 涂层组织结构与表面形貌分析
5.4 涂层高温烧蚀
5.5 w/ir复合涂层
5.6 小结
第6章 双辉等离子法在wc基体表面沉积ir涂层
6.1 引言
6.2 实验过程
6.3 涂层的形貌与结构
6.4 涂层的力学性能
6.5 ir涂层高温烧蚀
6.6 小结
第7章 双辉筹离子法在c/c基体表面沉积w涂层
7.1 引言
7.2 实验过程
7.3 c/c复合材料表面双辉等离子制备w涂层工艺优化
7.4 涂层的形貌表征
7.5 涂层的力学性能
7.6 涂层的高温处理
7.7 小结
参考文献
支持本研究课题的学术论文
支持本研究课题的专利
致谢
后记

封面

书名:难熔材料表面双辉深积铱涂层研究

作者:陈照峰，吴王平著

页数:136

定价:¥25.0

出版社:西北工业大学出版社

出版日期:2012-04-01

ISBN:9787561233184

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